高純蒸發(fā)料

蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應用于半導體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應商，可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。這些材料可做成絲狀，片狀，顆粒狀。適用于鎢絲籃加熱蒸發(fā)，鎢舟，鉬舟蒸發(fā)，各種坩堝蒸發(fā)等。

同時，這些材料亦廣泛應用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質(zhì)晶體制備等領域。

中諾新材可根據(jù)您的需求，為您定制不同化合物，不同比例的摻雜靶材。通過球磨制粉，共沉積制粉，真空熱壓燒結(jié)，常壓燒結(jié)等工藝，可保證靶材摻雜比例準確，摻雜相單一，致密度高。

部分定制靶材如下：

氧化銦錫 ITO In2O3:SnO2=90:10 wt%

氧化鋅鋁 AZO ZnO:Al2O3=98:2 wt%

銅銦硒 CIGS Cu:In:Ga:Se=1:0.7:0.3:2 at%

氧化鋅摻雜氧化鎂等

氧化銦鋅 IGZO In:Ga:Zn=2:2:1 at%

鈦鋯酸鉛 PZT Pb1.2Zr0.52Ti0.48O3

鍺銻碲 GST Ge:Sb:Te=2:2:5 at%

X射線衍射儀

中諾新材分析測試設備——X射線衍射儀                                              

  Rigaku 靶材晶向比例分析系統(tǒng)（XRD）可直接用于檢測直徑在500mm以下的固體金屬材料的內(nèi)部織構(gòu)。X射線是一種波長（0.06-20nm）很短的電磁波，當X 射線照射晶態(tài)結(jié)構(gòu)時，將受到晶體點陣排列的不同原子或分子所衍射。當用波長為λ的單色X射線照射到兩個晶面間距為d的晶面時會發(fā)生布拉格定律衍射，即2dsinθ=nλ（n為整數(shù)）θ稱為衍射角（入射或衍射X射線與晶面間夾角）。應用X射線在晶體中的衍射現(xiàn)象。特征X射線作用于安裝在測角儀上的晶體后產(chǎn)生衍射點，通過檢測器記錄衍射點的強度數(shù)據(jù)。通過計算機控制完成衍射的自動尋峰、測定晶胞參數(shù)、收集衍射強度數(shù)據(jù)，統(tǒng)計系統(tǒng)消光規(guī)律，確定空間群等。進而計算晶體結(jié)構(gòu)。