性 狀：    以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點，適用于高精密光學(xué)儀器，光學(xué)鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。    

質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)：    注意事項：
1． 使用前請先搖勻；
2． 使用時，可用少量的水加以稀釋。

應(yīng)用范圍：
1、硅晶圓片拋光;鍺片拋光;砷化鎵拋光;磷化銦拋光;光學(xué)晶體拋光;藍(lán)寶石襯底拋光;
2、LED襯底拋光;硒化鋅拋光;光纖連接器拋光;光纖跳線拋光;玻璃拋光;石英拋光；

貯 存：    本品需在0 ℃以上儲存，防止結(jié)冰，在0 ℃以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。    

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