電子束蒸發(fā)靶材

中諾新材（北京）科技有限公司可提供種類齊全的熱蒸發(fā)靶材，電子束蒸發(fā)靶材，標(biāo)準(zhǔn)顆粒尺寸為：φ2*5mm，φ3*3mm，φ6*6mm，加料預(yù)熔方便，產(chǎn)品純度99.99-99.999%。并且可提供配套蒸發(fā)舟，蒸發(fā)線圈，坩堝等

貴（gui）金屬材料金顆粒 銀顆粒 鉑顆粒 鈀顆粒

常規(guī)金屬材料鋁顆粒 銅顆粒 鈦顆粒 鎳顆粒 鉻顆粒

合金材料金鍺合金  金鍺鎳合金  金錫合金 鎢鈦合金

配套坩堝銅坩堝 鎢坩堝 鉬坩堝 石墨坩堝 氮化硼坩堝

中諾新材分析測(cè)試設(shè)備——晶相檢測(cè)分析儀                                          

  金相顯微鏡可以對(duì)Al、Ti、Ta、Cu、W、Mo、Co、Ni等金屬及其合金材料進(jìn)行專業(yè)的金相分析。目前自有的生產(chǎn)設(shè)備主要有真空中/高頻感應(yīng)熔煉爐、磁懸浮熔煉爐、非自耗真空電弧爐、真空燒結(jié)爐、真空熱壓爐、高溫?zé)Y(jié)爐、氣氛燒結(jié)爐、氣相合成爐、冷壓成型機(jī)、真空鍛軋?jiān)O(shè)備、車床、磨床、銑床、鉆床、沖床，線切割等各種材料成型及機(jī)械加工設(shè)備。該儀器的物境倍數(shù)：5X 10X 20X 40X，目鏡倍數(shù)：10X，可擴(kuò)展性：可配圖像分析系統(tǒng)(數(shù)碼相機(jī)、攝像頭、圖像分析軟件，采用TCI金相圖像分析系統(tǒng)V2.0，可對(duì)材料顯微組織、低倍組織和斷口組織等進(jìn)行分析研究和表征，包含材料顯微組織的成像及其定性、定量表征，主要反映和表征構(gòu)成材料的相和組織組成物、晶粒（亦包括可能存在的亞晶）、非金屬夾雜物乃至某些晶體缺陷（例如位錯(cuò)）的數(shù)量、形貌、大小、分布、取向、空間

中諾新材研發(fā)介紹：

1. 研發(fā)種類：各種比例的金屬合金、各種比例的陶瓷化合物摻雜、二元混合，三元混合，四元混合等多元混合材料。

2. 研發(fā)材料規(guī)格：靶材（圓靶 平面靶 旋轉(zhuǎn)靶 異形靶）、顆粒、圓柱、絲、棒、粉末、錠塊，可根據(jù)客戶要求。

3，研發(fā)設(shè)備：

1. 真空中、高頻熔煉爐

2. 真空懸浮熔煉爐

3. 真空電弧熔煉爐

4. 真空熱壓爐

5. 真空燒結(jié)爐

6. 氣氛燒結(jié)爐

7. 區(qū)熔提純?cè)O(shè)備

8. 真空蒸餾設(shè)備

9. 進(jìn)口全套機(jī)械加工設(shè)備