東莞市大嶺山展立五金模具加工廠主營(yíng)：鍍鈦,沖棒鍍鈦,鍍鈦加工

近十多年來(lái)，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是快的，它已經(jīng)成為當(dāng)今的表面處理方式之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說(shuō)的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。

PVD鍍膜技術(shù)的原理

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

隨著時(shí)代的發(fā)展，我們生活中有著許多的pvd涂層廠，當(dāng)然還是因?yàn)楝F(xiàn)在對(duì)于涂層的應(yīng)用范圍越來(lái)越大了，我們都涂層的種來(lái)有很多種，但是具體都有哪些分類呢？

pvd涂層廠結(jié)合針對(duì)硬質(zhì)合金刀具及其應(yīng)用而選取的不同預(yù)處理，該涂層對(duì)應(yīng)地以晶體或納米晶體的形式進(jìn)行沉積。金剛石多層膜也采取同樣的沉積方式。原則上，pvd涂層廠金剛石涂層也適用于有色金屬材料的加工。涂層主要應(yīng)用于由硬質(zhì)合金制成的桿刀和可轉(zhuǎn)位刀片。

物理氣相沉積技術(shù)基本原理可分三個(gè)工藝步驟：

(1)鍍料的氣化：即使鍍料蒸發(fā)，異華或被濺射，也就是通過(guò)鍍料的氣化源。

(2)鍍料原子、分子或離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過(guò)碰撞后，產(chǎn)生多種反應(yīng)。

(3)鍍料原子、分子或離子在基體上沉積。

認(rèn)識(shí)PVD物理氣相沉積技術(shù)

物理氣相沉積技術(shù)工藝過(guò)程簡(jiǎn)單，對(duì)環(huán)境改善，無(wú)污染，耗材少，成膜均勻致密，與基體的結(jié)合力強(qiáng)。該技術(shù)廣泛應(yīng)用于航空航天、電子、光學(xué)、機(jī)械、建筑、輕工、冶金、材料等領(lǐng)域，可制備具有耐磨、耐腐飾、裝飾、導(dǎo)電、絕緣、光導(dǎo)、壓電、磁性、潤(rùn)滑、超導(dǎo)等特性的膜層。

氣相沉積是一種在基體表面形成功能膜層的技術(shù)，它是利用物質(zhì)在氣相中產(chǎn)生的物理或(及)化學(xué)反應(yīng)而在產(chǎn)品表面沉積單層或多層的、單質(zhì)或化合物的膜層，從而使產(chǎn)品表面獲得所需的各種優(yōu)異性能。

氣相沉積作為一種表面鍍膜方法，其基本步驟有需鍍物料氣相化->輸運(yùn)->沉積。它的主要特點(diǎn)在于不管原來(lái)需鍍物料是固體、液體或氣體，在輸運(yùn)時(shí)都要轉(zhuǎn)化成氣相形態(tài)進(jìn)行遷移，終到達(dá)工件表面沉積凝聚成固相薄膜。