東莞市大嶺山展立五金模具加工廠主營(yíng)：鍍鈦,沖棒鍍鈦,鍍鈦加工

真空離子鍍膜（PVD）是廣泛應(yīng)用的工業(yè)超硬薄膜技術(shù)，以其高硬度、低磨損率、低磨擦系數(shù)、強(qiáng)抗腐蝕性、抗黏著性等優(yōu)越的使用性能廣泛應(yīng)用于模具工業(yè)中。多年來(lái)，本廠以其獨(dú)具特色的服務(wù)理念贏得客戶的一致認(rèn)同，本公司在真空離子鍍方面擁有多年的生產(chǎn)實(shí)戰(zhàn)經(jīng)驗(yàn)，現(xiàn)已廣泛推行應(yīng)用的功能性薄膜包括：氮化鈦(TiN), 氮化鉻(CrN), 氮化鋁鈦(TiAlN), 氮碳化鈦(TiCN), 氮碳化鉻(CrCN)。

1.真空蒸鍍

真空蒸鍍是真空條件下在1.33x10-3至1.33x10-4Pa的壓力下，用電子束等熱源加熱沉積材料使之蒸發(fā)，蒸發(fā)的原子或分子直接在注塑加工件表面形成沉積層。但對(duì)于難熔的金屬碳化物和氮化物進(jìn)行直接蒸發(fā)是有困難的，并且有使化合物分解的傾向。為此，開發(fā)了引入化學(xué)過(guò)程的反應(yīng)蒸鍍，例如，用電子槍蒸發(fā)鈦金屬，并將少量和等反應(yīng)氣體導(dǎo)入蒸發(fā)空間，使鈦原子和反應(yīng)氣體原子在工件表面進(jìn)行反應(yīng)，沉積TiC涂層。

真空蒸鍍多用于透鏡和反射鏡等光學(xué)元件、各種電子元件、塑料注塑加工制品等的表面鍍膜，在表面硬化方面的應(yīng)用不太多。

隨著氣相沉積技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用，上述兩類型氣相沉積各自都有新的技術(shù)內(nèi)容，兩者相互交叉，你中有我，我中有你，致使難以嚴(yán)格分清是化學(xué)的還是物理的。比如，人們把等離子體、離子束引入到傳統(tǒng)的物理氣相沉積技術(shù)的蒸發(fā)和濺射中，參與其鍍膜過(guò)程，同時(shí)通入反應(yīng)氣體，也可以在固體表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，生成新的合成產(chǎn)物固體相薄膜，稱其為反應(yīng)鍍。在濺射鈦(Ti)等離子體中通入反應(yīng)氣體N2后合成TiN就是一例。這就是說(shuō)物理氣相沉積也可以包含有化學(xué)反應(yīng)。又如，在反應(yīng)室內(nèi)通入，借助于w靶陰極電弧放電，在Ar，W等離子體作用下使分解，并在固體表面實(shí)現(xiàn)碳鍵重組，生成摻W的類金剛石碳減摩膜，人們習(xí)慣上把這種沉積過(guò)程仍歸入化學(xué)氣相沉積，但這是在典型的物理氣相沉積技術(shù)——金屬陰極電弧離子鍍中實(shí)現(xiàn)的。另外，人們把等離子體、離子束技術(shù)引入到傳統(tǒng)的化學(xué)氣相沉積過(guò)程，化學(xué)反應(yīng)就不完全遵循傳統(tǒng)的熱力學(xué)原理，因?yàn)榈入x子體有更高的化學(xué)活性，可以在比傳統(tǒng)熱力學(xué)化學(xué)反應(yīng)低得多的溫度下實(shí)現(xiàn)反應(yīng)，這種方法稱為等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(PlasmaAssistedChemicalVaporDeition，簡(jiǎn)稱PACVD；有些資料稱之為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積，簡(jiǎn)稱PECVD)，它賦予化學(xué)氣相沉積更多的物理含義。

在今天，討論化學(xué)氣相沉積與物理氣相沉積的不同點(diǎn)，恐怕只剩下用于鍍膜物料形態(tài)的區(qū)別，前者是利用易揮發(fā)性化合物或氣態(tài)物質(zhì)，而后者則利用固相(或液相)物質(zhì)。這種區(qū)分似乎已失去原來(lái)定義的內(nèi)涵實(shí)質(zhì)。

我們?nèi)匀话凑找延械牧?xí)慣，主要以上述鍍料形態(tài)的區(qū)別來(lái)區(qū)分化學(xué)氣相沉積和物理氣相沉積，把固態(tài)(液態(tài))鍍料通過(guò)高溫蒸發(fā)、濺射、電子束、等離子體、離子束、激光束、電弧等能量形式產(chǎn)生氣相原子、分子、離子(氣態(tài)，等離子態(tài))進(jìn)行輸運(yùn)，在固態(tài)表面上沉積凝聚(包括與其他反應(yīng)氣相物質(zhì)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成反應(yīng)產(chǎn)物)，生成固相薄膜的過(guò)程稱為物理氣相沉積