

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
雙層光刻膠-水性光刻膠-固體光刻膠-Futurrex
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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
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經(jīng)營(yíng)模式
生產(chǎn)加工
所在地區(qū)
北京市大興區(qū)
主營(yíng)產(chǎn)品





光刻膠:用化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行圖像轉(zhuǎn)移的媒介
光刻膠具有光化學(xué)敏感性,其經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將設(shè)計(jì)好的微細(xì)圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到待加工基片。
光刻膠和集成電路制造產(chǎn)業(yè)鏈的前端的即為光刻膠專用化學(xué)品,生產(chǎn)而得的不同類型的光刻膠被應(yīng)用于消費(fèi)電子、家用電器、信息通訊、汽車電子、航空航天等在內(nèi)的各個(gè)下游終端領(lǐng)域,需求較為分散。
光刻膠基于應(yīng)用領(lǐng)域不同一般可以分為半導(dǎo)體集成電路(IC)光刻膠、 PCB光刻膠以及LCD光刻膠三個(gè)大類。其中, PCB光刻膠占全球市場(chǎng)24.5%,半導(dǎo)體IC光刻膠占全球市場(chǎng)24.1%,LCD光刻膠占全球市場(chǎng)26.6%。
NR77-15000P
9,去膠:濕法去膠,用溶劑、用NONG硫酸。負(fù)膠,98%H2SO4+H2O2+膠=CO+CO2+H2O,正膠:BIN酮,干法去膠(ash)氧氣加熱去膠O2+膠=CO+CO2+H2O,等離子去膠Oxygenplasma ashing,高頻電場(chǎng)O2---電離O- + O+, O+活性基與膠反應(yīng)CO2,CO, H2O, 光刻檢驗(yàn)
光刻膠的成分
樹脂:光刻樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì) ,是用來將其他材料聚合在一-起的粘合劑。 光刻膠的粘附性、膠膜厚度等都是樹脂給的。
感光劑:感光劑是光刻膠的核心部分,他對(duì)光形式的輻射能,特別在紫外區(qū)會(huì)發(fā)生反應(yīng)。曝光時(shí)間、光源所發(fā)射光線的強(qiáng),度都根據(jù)感光劑的特性選擇決定的。
溶劑:光刻膠中容量較大的成分,感光劑和添加劑都是固體物質(zhì),為了方便均勻的涂覆,要將他們加入溶劑進(jìn)行溶解,形成液態(tài)物質(zhì),并且使之具有良好的流動(dòng)性,可以通過選擇方式涂布在waf er表面。
添加劑:用以改變光刻膠的某些特性,如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑。
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