除泡光刻膠品牌 正負(fù)光刻膠 Futurrex 光阻光刻膠
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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司

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商品參數(shù)
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商品介紹
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聯(lián)系方式
耐溫 150度
膜厚 54μm
聚焦補(bǔ)償 -15μm
掩模尺寸 12μm
縱橫比 4.5
運(yùn)輸方式 貨運(yùn)及物流
光刻膠型號(hào) NR5-8000
報(bào)價(jià)方式 按實(shí)際訂單報(bào)價(jià)為準(zhǔn)
曝光能量 1100 mJ/cm22
產(chǎn)品編號(hào) 12546691
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營(yíng):光刻膠




芯片光刻的流程詳解(一)

在集成電路的制造過(guò)程中,有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)——光刻,正因?yàn)橛辛怂?,我們才能在微小的芯片上?shí)現(xiàn)功能?,F(xiàn)代刻劃技術(shù)可以追溯到190年以前,1822年法國(guó)人Nicephore niepce在各種材料光照實(shí)驗(yàn)以后,開(kāi)始試圖復(fù)一種刻蝕在油紙上的印痕(圖案),他將油紙放在一塊玻璃片上,玻片上涂有溶解在植物油中的瀝青。經(jīng)過(guò)2、3小時(shí)的日曬,透光部分的瀝青明顯變硬,而不透光部分瀝青依然軟并可被松香和植物油的混合液洗掉。通過(guò)用強(qiáng)酸刻蝕玻璃板,Niepce在1827年制作了一個(gè)d’Amboise主教的雕板相的產(chǎn)品。

Niepce的發(fā)明100多年后,即第二次大戰(zhàn)期間才應(yīng)用于制作印刷電路板,即在塑料板上制作銅線路。到1961年光刻法被用于在Si上制作大量的微小晶體管,當(dāng)時(shí)分辨率5um,如今除可見(jiàn)光光刻之外,更出現(xiàn)了X-ray和荷電粒子刻劃等更高分辨率方法。


NR9-1000py

問(wèn)題回饋:

1.我們是LED制造商,麻煩推薦幾款可以用于離子蝕刻和Lift-off工藝的光刻膠。

A 據(jù)我所知,F(xiàn)uturrex

有幾款膠很,NR7-1500P

NR7-3000P是專(zhuān)門(mén)為離子蝕刻

設(shè)計(jì)的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的應(yīng)用。

2.請(qǐng)問(wèn)有沒(méi)有可以替代goodpr1518,Micropure去膠液和goodpr顯影液的產(chǎn)品?

A 美國(guó)光刻膠,F(xiàn)uturrex

正膠PR1-2000A

, 去膠液RR4,和顯影液RD6可以解決以上問(wèn)題。

3.你們是否有可以替代Shipley

S1805的用于DVD的應(yīng)用產(chǎn)品?

A 我們建議使用Futurrex

PR1-500A , 它有幾個(gè)優(yōu)點(diǎn):比較好的解析度,比較好的線寬控制,

反射比較少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~

4. 求助,耐高溫的光阻是那一種?

A Futurrex, NR7 serious(負(fù)光阻)Orpr1 serious(正光阻),再經(jīng)過(guò)HMCTS

silyiation process,可以達(dá)到耐高溫200度,PSPI透明polyimide,可耐高溫250度以上。

5.厚膜光阻在鍍金應(yīng)用上,用哪一種比較理想?

A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的濕膜更加適合,和理想。

6.請(qǐng)教LIFT-OFF制程哪一種光阻適合?

A 可以考慮使用Futurrex

,正型光阻PR1,負(fù)型光阻用NR1&NR7,它們都可以耐高溫180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。

7.請(qǐng)問(wèn),那位專(zhuān)家知道,RIE

Mask,用什么光阻比較好?

A 正型光阻用PR1系列,負(fù)型光阻使用NR5,兩種都可以耐高溫180度。

8.一般厚膜制程中,哪一種光阻適合?

A NR9-8000P有很高的深寬比(超過(guò)4:1),一般厚膜以及,MEMS產(chǎn)品的高需求。

9.在DEEP

RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P嗎?

A 建議不使用,因?yàn)槭褂肗R5-8000更加理想和適合。

10.我們是OLED,我們有一種制程上需要一層SPACER,那種光阻適合?

A 有一種膠很適合,美國(guó)Futurrex

生產(chǎn)的NR1-3000PY

and和

NR1-6000PY,都適合在OLED制程中做spacers



光刻膠:半導(dǎo)體技術(shù)壁壘的材料之一

光刻是整個(gè)集成電路制造過(guò)程中耗時(shí)長(zhǎng)、難度大的工藝,耗時(shí)占IC制造50%左右,成本約占IC生產(chǎn)成本的1/3。光刻膠是光刻過(guò)程重要的耗材,光刻膠的質(zhì)量對(duì)光刻工藝有著重要影響。

賽米萊德——專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)、銷(xiāo)售光刻膠,我們公司堅(jiān)持用戶為上帝,想用戶之所想,急用戶之所急,以誠(chéng)為本,講求信譽(yù),以產(chǎn)品求發(fā)展,以質(zhì)量求生存,我們熱誠(chéng)地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。



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