技術(shù)指標(biāo)

切片厚度≥50nm液氮制冷防止回溫超過－135℃時形成方形冰晶;

自動程序設(shè)定系統(tǒng)

應(yīng)用范圍

常規(guī)透射電鏡樣品制備；

低溫透射電鏡樣品制備：適用于電鏡細(xì)胞化學(xué)和免疫細(xì)胞化學(xué)；

應(yīng)用：組織和細(xì)胞的超微結(jié)構(gòu)研究，電鏡細(xì)胞化學(xué)和免疫細(xì)胞化學(xué)。