PVD技術(shù)在高速具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視，人們在競相開發(fā)高性能、高可靠性涂層設(shè)備的同時，也對其應(yīng)用領(lǐng)域的擴展尤其是在硬質(zhì)合金、陶瓷類刀具中的應(yīng)用進行了更加深入的研究。研究結(jié)果表明：與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內(nèi)部應(yīng)力狀態(tài)為壓應(yīng)力，更適于對硬質(zhì)合金精密復(fù)雜刀具的涂層；PVD工藝對環(huán)境無不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。

氮化鈦（TiN）是相當(dāng)穩(wěn)定的化合物，在高溫下不與鐵、鉻、鈣和鎂等金屬反應(yīng)，TiN坩堝在CO與N2氣氛下也不與酸性渣和堿性渣起作用，因此TiN坩堝是研究鋼液與一些元素相互作用的優(yōu)良容器。TiN在真空中加熱失去氮，生成氮含量較低的氮化鈦。

TiN有著誘人的金黃色、熔點高、硬度大、化學(xué)穩(wěn)定性好、與金屬的潤濕小的結(jié)構(gòu)材料、并具有較高的導(dǎo)電性和超導(dǎo)性，可應(yīng)用于高溫結(jié)構(gòu)材料和超導(dǎo)材料。

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)的主要特點和優(yōu)勢

和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點：

1．膜層與工件表面的結(jié)合力強，更加持久和耐磨

2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的工件

3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效率高

4．可鍍膜層種類廣泛

5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）

 PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。