微弧氧化技術(shù)及其膜層具有許多其他膜層無(wú)法比擬的優(yōu)點(diǎn)，總結(jié)如下： 
（1）孔隙率極低，從而微弧氧化膜具有抗腐蝕的性能及較好的絕緣性； 
（2）在溫度較高時(shí)會(huì)發(fā)生相變，相變后膜層的硬度、耐磨性提高； 
（3）可以改變操作工藝及控制電解液成分設(shè)計(jì)出滿足需求的氧化膜，增加了它的應(yīng)用性能； 
（4）膜層直接在基底上生長(zhǎng)，對(duì)于形狀復(fù)雜的構(gòu)建仍然適用； 
（5）可以通過(guò)氧化時(shí)間來(lái)控制氧化層厚度，通過(guò)調(diào)整電壓或電流來(lái)調(diào)控孔徑的大小； 
（6）反應(yīng)速度較快，對(duì)環(huán)境要求極低，在自然常溫下就可以進(jìn)行，操作工藝步驟少，方便批量生產(chǎn)； 
（7）大多數(shù)金屬材料都可以進(jìn)行微弧氧化； 
（8）不會(huì)對(duì)周?chē)沫h(huán)境造成污染。 
前文提到利用微弧氧化技術(shù)可以制備出具有不同功效的膜層，其應(yīng)用領(lǐng)域主要表現(xiàn)為以下幾個(gè)方面：制備出的具有耐蝕性能的膜層多用于化學(xué)設(shè)備、建筑、管道等，制備出的具有耐磨性能的膜層多用于機(jī)械領(lǐng)域、發(fā)動(dòng)機(jī)部件等，制備出的具有絕緣功能的膜層多用于儀器儀表等電子領(lǐng)域，還有一些膜層具有特定的功能性適用于光催化、醫(yī)療器材等領(lǐng)域。