北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司主營：氦檢漏設(shè)備,氦質(zhì)譜檢漏儀,LNG抽真空設(shè)備

用氦氣作為氦質(zhì)譜檢漏氣體的原因

1、氦在空氣中及真空系統(tǒng)殘余氣體中的含量(在空氣中約含5.2ppm)， 在材料出氣中也很少，因此本底壓力小，輸出的本底電流也小。正因?yàn)楸镜仔。赡承┰蛞鸨镜椎牟▌?，亦即本底噪聲?

就小，因此微小漏率也就能反應(yīng)出來，靈敏度高。

2、氦的質(zhì)量小(相對分子質(zhì)量為4)，易于穿過漏孔。這樣，氦較除氫以外的其他氣體通過同-漏孔的漏率就大，容易發(fā)現(xiàn)，靈敏度高。

氦質(zhì)譜檢漏儀的基本原理與結(jié)構(gòu)

氦質(zhì)譜檢漏儀一般由質(zhì)譜管,真空系統(tǒng)和電子系統(tǒng)組成。其中質(zhì)譜管包括離子源，質(zhì)量分析器和離子檢測器;真空系統(tǒng)-般由分子泵機(jī)械泵、電磁閥和真空計(jì)組成。離子源的作用是將原子電離成帶電離子并聚焦成束，以-定能量注入質(zhì)分析器，目前常用的電子轟擊型離子源有尼爾型和震蕩型兩種形式。質(zhì)分析器的作用起將各類離子按其質(zhì)荷比的不同實(shí)現(xiàn)分離。子檢測器的作用是手機(jī)質(zhì)星分析器所選定的氦離子流并加以放大，再通過比對運(yùn)算，得出泄漏率

真空系統(tǒng)的作用是獲取質(zhì)譜過程所需的真空，同時完成被檢件的抽空和氦氣的引入?？障到y(tǒng)-般由分子泵、機(jī)械泵、電磁閥和真空計(jì)組成組成。按照真空系統(tǒng)的不同結(jié)構(gòu)，檢漏儀分為常規(guī)系統(tǒng)和逆擴(kuò)散兩種。常規(guī)系統(tǒng)多用于早期的氦質(zhì)譜檢漏儀,該種檢漏儀的被檢件與高真空部分直接相通，由被檢件泄入的氮?dú)馐紫鹊竭_(dá)質(zhì)譜管被檢到，因而具有較高的靈敏度,但是會對質(zhì)譜管有污染。逆擴(kuò)散系統(tǒng)檢漏儀與常規(guī)系統(tǒng)相比，被檢件只與低真空相通,因

此只需將被檢工件抽至低真空就能進(jìn)行檢漏，氦氣是逆擴(kuò)散到質(zhì)譜管,不會對系統(tǒng)有污染,因此被廣泛采用,已成為市場的主品。

機(jī)械泵的工作方式不-樣,分為干泵檢漏儀和油泵檢漏儀，油泵工作會有油霧排出,污染工作環(huán)境，干泵沒有油霧排出對工作環(huán)境沒有影響。在半導(dǎo)體潔凈車間都是使用干泵檢漏儀。

半導(dǎo)體設(shè)備及材料需要檢漏原因

1、半導(dǎo)體設(shè)備要求高真空，比如磁控濺射臺、電子束蒸發(fā)臺、ICP、PECVD等設(shè)備。出現(xiàn)泄漏就會導(dǎo)致高真空達(dá)不到或需要大量的時間，耗時耗力；

2、在高真空環(huán)境潔凈度高、水蒸氣很少。一旦出現(xiàn)泄漏周圍環(huán)境中的灰塵和懸浮顆?；驂m埃就會對晶元造成污染，對半導(dǎo)體的特性改變并破壞其性能，因此在半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過程中必須進(jìn)行氦質(zhì)譜檢漏；

3、一些半導(dǎo)體設(shè)備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體，經(jīng)過氦質(zhì)譜檢漏后，在低漏率真空條件下，這些氣體不易外泄，設(shè)備能及時抽走未反應(yīng)氣體和氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物，保障工作人員安全和大氣環(huán)境。

4、芯片封裝，一旦出現(xiàn)泄漏，芯片就會失效。