這些發(fā)展需要開發(fā)新基底（例如柔性薄膜聚合物，以及包括硅與鍺在內(nèi)的紅外級材料），或采用產(chǎn)生高透射率的新化學(xué)品與化合物，以及在紫外與紅外光譜內(nèi)具有高截止率的濾光片。鍍膜機技術(shù)的進步帶來了精度更高的濾光片，這些濾光片能產(chǎn)生<1nm的帶寬，而公差<1%，這真正將頂級分光光度計的功能發(fā)揮到了極致。隨著每項技術(shù)的進步，公差與規(guī)格已進一步獲得優(yōu)化，從而產(chǎn)生表面質(zhì)量、表面平整度、平行度及傳輸波前更好的精密基底。

       在幾乎每項消費應(yīng)用和科學(xué)應(yīng)用中，新材料、亞納米規(guī)格、深紫外到遠紅外的光譜范圍以及經(jīng)過改善的各種公差將不斷推動光學(xué)和光電子學(xué)的發(fā)展。