Chroma 7503三維光學輪廓儀乃利用掃描白光干涉技術所發(fā)展之次納米三維光學輪廓量測儀，透過精密的掃描系統(tǒng)以及創(chuàng)新算法進行微奈米結構物表面輪廓的量測與分析。并可依據(jù)需求搭配彩色或單色相機進行2D量測，使系統(tǒng)亦具備工具顯微鏡量測功能，達到一機多用途的目的。

Chroma 7503新一代的系統(tǒng)模塊化設計，具備高度彈性之組合配置，可針對不同之量測需求配置來符合不同之量測應用：搭載電動鼻輪，最多可同時掛載5種物鏡，使用時直接切換，省去手動更換的麻煩。同時配備電動調(diào)整移動平臺，可對樣品作自動調(diào)平及定位。垂直與水平軸向掃描范圍大，適合各種自動量測之應用，樣品皆不需前處理即可進行非破壞、快速的表面形貌量測與分析，適合使用于業(yè)界研發(fā)生產(chǎn)、制程改善以及學術研究等單位。

Chroma 7503之高度分辨率可達0.1 nm，而搭配使用Z垂直軸量測掃描行程更可達到100mm，且水平軸向亦可達次微米解析，除此Chroma 7503 可透過計算機控制移動平臺進行水平掃瞄，使其水平軸向量測范圍可達到150 × 150mm，并可依據(jù)客戶需求修改平臺尺寸。Chroma 7503搭配快速的校正程序以及演算原理，系統(tǒng)校正結果可以追朔至NIST標準，并結合數(shù)種創(chuàng)新且強固可靠的算法，因此本系列產(chǎn)品可同時擁有高精準度以及大范圍測量的特質(zhì)。

Chroma 7503系統(tǒng)配備自動化掃描平臺，由垂直軸自動化移動平臺的掃描功能搭配快速的自動對焦算法，可有效輔助用戶找到優(yōu)秀的對焦位置，另外通過傾斜調(diào)整平臺可快速地將待測物調(diào)平，在短短的幾秒鐘之內(nèi)無需繁復的操作，系統(tǒng)即可自動將待測物體調(diào)整至優(yōu)秀對焦位置并予以調(diào)平進行量測。