鋼研納克雙向觀測(cè)Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統(tǒng)
Plasma 3000ICP光譜儀采用徑向觀測(cè)與軸向觀測(cè)設(shè)計(jì)，適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測(cè)量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。 優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì)，采用非球面光學(xué)元件，改善成像質(zhì)量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù)，縮短光室充氣時(shí)間，提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性，開機(jī)即可測(cè)量。 包圍式立體控溫系統(tǒng)，保障光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定無(wú)漂移。
光源
固態(tài)射頻發(fā)生器，高效穩(wěn)定，體積小巧，效率高，匹配速度快，鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測(cè)試，均能獲得優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。 垂直炬管的設(shè)計(jì)，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術(shù)，地降低自吸效應(yīng)和電離干擾，從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更 低的背景，保證準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式，待機(jī)時(shí)降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行，節(jié)約使用成本。
簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì)，快速定位，精確的位置重現(xiàn)。 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線，保障通訊高效可靠。
進(jìn)樣系統(tǒng)
簡(jiǎn)潔的炬管安裝設(shè)計(jì)，自動(dòng)定位炬管位置，精確的位置重現(xiàn)。鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng)，可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸（HF） 等樣品的測(cè)試。
使用可拆卸式或一體式炬管，易于維護(hù)，轉(zhuǎn)換快速，使用成本低。Plasma 3000 ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測(cè)試性能長(zhǎng)期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動(dòng)泵，提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。
檢測(cè)器
大面積背照式CCD檢測(cè)器,全譜段響應(yīng)，高紫外量子化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動(dòng)態(tài)范 圍和極快的信號(hào)處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取，從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。Plasma 3000 ICP光譜儀具有同類產(chǎn)品中靶面尺寸，百萬(wàn)級(jí)像素，單像素面積24μm X 24μm，三級(jí)半導(dǎo)體制冷,制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。
軟件系統(tǒng)
人性化的界面設(shè)計(jì)，流暢易懂，簡(jiǎn)便易用，針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng)，無(wú)須復(fù)雜的方法開發(fā)， 即可快速開展分析操作。
豐富的譜線庫(kù)，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測(cè)方式設(shè)置，直觀的測(cè)試結(jié)果顯示。
安全防護(hù)
全方位電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護(hù)，避免用戶誤操作可能帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn) 防紫外觀測(cè)窗

鋼研納克Plasma 1500 固態(tài)光源單道掃描ICP
進(jìn)樣系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
炬管方向：垂直放置
炬管：可拆卸式或一體式炬管，中心管可選0.8mm、1.5mm、2.0mm（石英或陶瓷）
霧化器：同心霧化器或平行通道霧化器，外徑6mm,可選標(biāo)準(zhǔn)霧化器、高鹽霧化器、氫氟酸霧化器。
霧室：旋流霧化室，可選配雙筒型霧化室和耐HF霧化室。
蠕動(dòng)泵：4通道12滾輪，轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)

鋼研納克Plasma1500 固態(tài)光源單道掃描ICP光譜儀
Plasma1500型電感耦合等離子發(fā)射光譜儀是鋼研納克研發(fā)的單道掃描型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀。在繼承鋼研納克的Plasma1000型單道掃描ICP-OES優(yōu)異性能的基礎(chǔ)上，結(jié)合國(guó)內(nèi)外單掃描型ICP-OES前沿技術(shù)，研發(fā)制造了新一代單掃描電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀。大面積高刻線密度平面全息光柵，Czerny-Turner 結(jié)構(gòu)光學(xué)系統(tǒng)，擁有通光量大，分辨率高的特點(diǎn)。雙光柵設(shè)計(jì)使得整個(gè)波長(zhǎng)分布范圍內(nèi)均具有極高光譜分辨率。高效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。雙通道高靈敏PMT 檢測(cè)器，寬動(dòng)態(tài)范圍信號(hào)處理技術(shù)，具有優(yōu)異的檢測(cè)能力。紫外光譜范圍內(nèi)自動(dòng)切換使用紫外PMT。功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，簡(jiǎn)化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗(yàn)?？蓮V泛應(yīng)用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司是專業(yè)的ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè),主營(yíng)產(chǎn)品有: ICP光譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀,ICP光譜分析儀,全譜ICP,單道掃描ICP光譜儀,ICP-AES,ICP-OES等。源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,中國(guó)ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018《電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀》起草單位,懂ICP的國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀制造商。歡迎來(lái)電洽談