ICP-AES發(fā)展趨勢(shì)：
1、 儀器小型化，臺(tái)式機(jī)。（光源小型化、光室小型化）
2、 波長(zhǎng)范圍的拓寬。
3、 光學(xué)分辨率的提高。
4、 光源的穩(wěn)定性及減少氬氣消耗的新技術(shù)。
5、 更加高效穩(wěn)定的進(jìn)樣系統(tǒng)。
6、 軟件更加方便、智能。功能更加強(qiáng)大。

ICP-MS與ICP-OES的區(qū)別？
1、容易使用度不同：
在日常工作中，從自動(dòng)化來(lái)講，ICP-OES是成熟的，可由技術(shù)不熟練的人員來(lái)應(yīng)用ICP-OES專家制定的方法進(jìn)行工作。
ICP-MS的操作直到現(xiàn)在仍較為復(fù)雜，自1993年以來(lái)，盡管在計(jì)算機(jī)控制和智能化軟件方面有很大的進(jìn)步，但在常規(guī)分析前仍需由技術(shù)人員進(jìn)行精密調(diào)整，ICP-MS的方法研究也是很復(fù)雜及耗時(shí)的工作.

線性動(dòng)態(tài)范圍LDR不同：
ICP-MS具有超過(guò)105的LDR，各種方法可使其LDR開(kāi)展至108，但不管如何，對(duì)ICP-MS來(lái)說(shuō)：高基體濃度會(huì)導(dǎo)致許多問(wèn)題，而這些問(wèn)題的解決方案是稀釋，正由于這個(gè)原因，ICP-MS應(yīng)用的主要領(lǐng)域在痕量/超痕量分析。
ICP-OES具有105以上的LDR且抗鹽份能力強(qiáng)，可進(jìn)行痕量及主量元素的測(cè)定，ICP-OES可測(cè)定的濃度高達(dá)百分含量，因此，ICP-OES外加ICP-MS，或GFAAS可以很好地滿足實(shí)驗(yàn)室的需要。

是國(guó)家科技部授權(quán)的“中華共和國(guó)科技成果檢測(cè)鑒定檢測(cè)機(jī)構(gòu)”、“分析技術(shù)研究、仲裁分析、人才培訓(xùn)中心”；中國(guó)方圓標(biāo)志認(rèn)證檢驗(yàn)實(shí)驗(yàn)室；國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局全國(guó)工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)許可證辦公室軸承鋼材產(chǎn)品生產(chǎn)許可證審查部所在地；是中關(guān)村高新技術(shù)園區(qū)掛牌的開(kāi)放實(shí)驗(yàn)室；是核電、商用飛機(jī)、中國(guó)應(yīng)急分析、北京市生產(chǎn)安全事故調(diào)查等技術(shù)支撐單位。