PlasmaMS 300 內(nèi)標(biāo)元素的選擇
內(nèi)標(biāo)元素的使用可以用來校正多樣品測定的過程中，信號隨著時間發(fā)生的漂移。實驗室環(huán) 境的變化或者樣品基體的變化（例如粘度等）都會造成信號的漂移。
對于任何的多元素分析，我們都推薦用戶至少使用一個內(nèi)標(biāo)元素。如果待測元素的質(zhì)量分 布從低到高都有，應(yīng)當(dāng)至少使用3個內(nèi)標(biāo)元素，分別檢測低質(zhì)量、中質(zhì)量、高質(zhì)量區(qū)段的 同位素信號漂移。
選擇什么同位素作為內(nèi)標(biāo)元素需要根據(jù)您的方法中的待測目標(biāo)同位素來決定。當(dāng)需要為您 方法中的各個目標(biāo)同位素分配內(nèi)標(biāo)同位素的時候，可以考慮一下幾個因素：
1.首先考慮的，也是重要的一個因素就是：用作內(nèi)標(biāo)的元素必須是您的樣品中不包含的 元素。這些內(nèi)標(biāo)元素應(yīng)當(dāng)精準(zhǔn)地添加到每一個單溶液里。一般我們可以單獨配置內(nèi)標(biāo)元素 溶液，然后在分析的時候進行在線添加，可以保證添加的精準(zhǔn)性。內(nèi)標(biāo)元素的信號強度會 做為參比，由軟件來對每個單溶液進樣時發(fā)生的信號抑制或增強進行計算和校正。如果您 的樣品中含有內(nèi)標(biāo)元素，則內(nèi)標(biāo)信號會發(fā)生額外的不規(guī)則的信號增強，造成軟件校正后的 目標(biāo)元素濃度比實際濃度偏低。
2.其次，內(nèi)標(biāo)元素的質(zhì)量數(shù)能和目標(biāo)元素比較接近，建議內(nèi)標(biāo)同位素和目標(biāo)元素同位 素之間的質(zhì)量差不要超過50amu。
3.為了確保內(nèi)標(biāo)元素和目標(biāo)元素在相同條件下的行為表現(xiàn)基本一致，內(nèi)標(biāo)元素和目標(biāo)元素 的電離電位比較接近。
當(dāng)使用內(nèi)標(biāo)元素校正的時候，有兩種校正方式是可以供選擇的：
1. 參考法(Reference)
2. 插值法(Interpolation)
參考法：任何分析元素同位素峰均能以任一內(nèi)標(biāo)元素同位素峰作為參照。目標(biāo)元素峰不需 要為內(nèi)標(biāo)元素附近的峰。當(dāng)使用參考法的時候，以校正空白(calibration blank)的內(nèi)標(biāo)響應(yīng) 值作為100%，通過計算樣品中內(nèi)標(biāo)元素的回收率，來校正進樣過程中的信號漂移。
樣品中的內(nèi)標(biāo)元素回收率（相對于calibration blank中的100%而產(chǎn)生的偏離）會被用作校 正因子來校正目標(biāo)同位素的數(shù)據(jù)（每種目標(biāo)同位素所使用的內(nèi)標(biāo)同位素都應(yīng)是其在方法中 選擇的用來參考的那一個內(nèi)標(biāo)同位素）
插補法：內(nèi)標(biāo)對測試峰的影響與兩者質(zhì)量數(shù)的接近程度有關(guān)。一個分析元素若置于兩內(nèi)標(biāo) 物中間，可依據(jù)每個 amu 基數(shù)進行計算因素的校正。
首先：
IS 1 in Blank set to 100% IS 2 in Blank set to 100%
IS 2 的質(zhì)量數(shù)大于 IS 1。
如果
IS 1 in Sample reads 80%
IS 2 in Sample reads 80%
我們可以認為 IS 1 &2 之間的所有元素都受到了 20%的抑制. Factor =1/80% = 1.25.
又如：
IS 1 in Sample reads 80%
IS 2 in Sample reads 60%
我們可以認為 IS 1 &2 之間的所有元素都受到了與質(zhì)量變化相關(guān)的抑制（質(zhì)量數(shù)越大，受
到抑制越強），距離 IS1 與 IS2 的距離相等的質(zhì)量數(shù)的元素， Factor =1/70% = 1.43.
上圖顯示的就是使用iCAP Q測量時，設(shè)置了一系列覆蓋質(zhì)量數(shù)區(qū)間的內(nèi)標(biāo)元素，計算樣 品中的內(nèi)標(biāo)元素回收率：
6Li 45Sc 115In 209Bi
因為所有的目標(biāo)元素濃度都需要使用內(nèi)標(biāo)回收率來進行校正,建議用戶將內(nèi)標(biāo)元素的濃度 控制在一個合理范圍，來降低內(nèi)標(biāo)的%RSD，一般說來我們建議內(nèi)標(biāo)元素的
icps >100,000。

ICP-MS的標(biāo)準(zhǔn)加入法
基體抑制是由基體帶來的物理干擾或化學(xué)干擾導(dǎo)致的。 使用標(biāo)準(zhǔn)加入法時： 1.首先將少量已知量的分析物添加到預(yù)制的分析樣品中；
2.然后對這些包含了標(biāo)準(zhǔn)加入物的樣品進行再測定，并繪制出濃度曲線；
3.該曲線在濃度軸(X 軸)上的截距即為樣品中分析物的濃度，
4.該曲線的實驗空白(即未加標(biāo)樣品)CPS（即 Y 軸上的截距），即為樣品中分析物的 CPS；
5.標(biāo)準(zhǔn)加入法得到的圖形斜率即為該基體中樣品的分析靈敏度。
6.標(biāo)準(zhǔn)加入法避免了配置標(biāo)準(zhǔn)曲線，相當(dāng)于進行了完全的基體匹配。
7.后續(xù)樣品如果基體和該加標(biāo)樣完全一致，則相當(dāng)于該方法也為后續(xù)未知樣品提供了基體 匹配，該加標(biāo)曲線可以直接用于后續(xù)樣品的全定量測定。
基體效應(yīng)以外的干擾并不能通過標(biāo)準(zhǔn)加入法消除，但是可以通過空白扣減來消除，前提是 用來扣減的空白溶液中和樣品中含有的干擾水平是一致的。

PlasmaMS 300在環(huán)境領(lǐng)域的應(yīng)用
在環(huán)境應(yīng)用領(lǐng)域(監(jiān)控環(huán)境中微量和有毒元素)中，PLASMAMS 300是近年來增長快的應(yīng)用技術(shù) 手段。 該應(yīng)用的關(guān)鍵是：根據(jù)相關(guān)法規(guī)，必須對水、土壤、淤泥以及其他重要的環(huán)境物質(zhì)中的一 系列元素進行檢測，并且這些元素含量都在接近ppb級別。
在環(huán)境行業(yè)應(yīng)用中，的挑戰(zhàn)是：用同樣的分析方法來分析不同基體的樣品。在這種情 況下，是在用PLASMAMS 300檢測之前對樣品基體進行分離。
分離技術(shù)近幾年在環(huán)境樣品分析中運用很多。具體方法就是：將iCAP Q與可以分離目 標(biāo)元素氧化物的附件(一般為色譜，例如LC或GC)偶聯(lián)。
應(yīng)用領(lǐng)域：
自來水檢測和水污染監(jiān)測 廢水中有毒元素和低水平錒系元素測定
環(huán)境污染物中同位素識別和定量

公司主要技術(shù)和產(chǎn)品的創(chuàng)新歷程
公司是我國金屬材料檢測領(lǐng)域的先行者?；谠撗性鹤?1954 年以來在金 屬材料和冶金工藝分析測試領(lǐng)域的技術(shù)積淀，公司于 2001 年成立，已逐步搭建 起強大的技術(shù)創(chuàng)新體系。公司自成立以來一直面向國家重大工程及重點項目需 求，不斷開發(fā)新技術(shù)、新標(biāo)準(zhǔn)、新產(chǎn)品，屢次解決國家及行業(yè)在金屬檢測技術(shù)及 儀器裝備領(lǐng)域的瓶頸，不斷實現(xiàn)重大技術(shù)突破，解決“卡脖子”問題，引領(lǐng)國內(nèi)金 屬檢測和檢測分析儀器的技術(shù)進步與創(chuàng)新。 憑借完善的創(chuàng)新體系和持續(xù)創(chuàng)新能力，公司目前擁有了在金屬材料檢測領(lǐng)域 的檢測、表征、評價和認證服務(wù)能力，同時開發(fā)出一系列具有完全自主知識 產(chǎn)權(quán)和首創(chuàng)性的儀器產(chǎn)品。
公司檢測分析儀器可分為原子光譜、X 射線熒光光譜、氣體元素分析、質(zhì)譜、 力學(xué)、無損探傷及環(huán)境監(jiān)測七大類，產(chǎn)品類型豐富，目前共有 40 多種產(chǎn)品型號， 覆蓋金屬材料檢測、環(huán)境監(jiān)測、食品藥品檢測等應(yīng)用領(lǐng)域。