
鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
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鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
店齡5年 ·
企業(yè)認(rèn)證 ·
北京市
主營(yíng)產(chǎn)品: ICP光譜儀,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,ICPOES
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鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: ICP光譜儀,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,ICPOES
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火花直讀光譜儀廠家-光譜儀江蘇
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¥260000.00
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¥39.80萬(wàn) / 個(gè)
icp直讀光譜儀 鋼研納克單道ICP 35年方法開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn) 鋼研納克 鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
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商品介紹
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光學(xué)系統(tǒng) 巴邢 - 龍格系統(tǒng)
焦距 750mm
譜線范圍 120~800nm
分辨率 優(yōu)于 0.01nm
電源要求 220V 單相 16A 2.5KVA
外形尺寸 1452mm×1367mm×860mm
重量 約 60Kg
商品介紹
Labspark 750T技術(shù)特點(diǎn)
?原位單次放電采集的專利技術(shù)(SDA)有效提高分析精度
?單板式透鏡架,擦拭時(shí)大大降低對(duì)光室的污染
?基于 ARM9 的儀器狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)
?固態(tài)吸附阱,防止油氣對(duì)光室的污染,提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性
?綠光背景燈,加快響應(yīng)速度,提高短期分析精度
?·銅火花臺(tái)底座,提高散熱性及堅(jiān)固性。
?·激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料。
?可變延時(shí)積分技術(shù),大大降低背景干擾。
?高精度光電倍增管負(fù)高壓獨(dú)立供電連續(xù)可調(diào)技術(shù),調(diào)整更精確,可程序調(diào)整,提高動(dòng)態(tài)范圍。
?網(wǎng)口采集,通用性更強(qiáng)。
?真空光室由特殊材質(zhì)制作:極低的熱膨脹系數(shù),受溫度波動(dòng)影響小。
?全新光室結(jié)構(gòu):可輕松檢測(cè) Li、Na、K 等長(zhǎng)波元素以及極短波長(zhǎng)元素或干擾嚴(yán)重的元素,如 N、P、S、B、Sb 等。
?內(nèi)置疲勞背景燈:有效降低光電倍增管暗電流對(duì)信號(hào)
?收集的影響,提高信噪比,延長(zhǎng)光電倍增管的使用壽命。
?自動(dòng)描跡:全新設(shè)計(jì)的自動(dòng)描跡系統(tǒng),快速精準(zhǔn),大大提高了儀器分析效率并降低了操作難度,提供自動(dòng)與手動(dòng)描跡切換功能。
?全新設(shè)計(jì)的共軸火花臺(tái):采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路,大大減少了氬氣的消耗量,減少了火花臺(tái)內(nèi)部的殘留金屬粉塵并且提高了儀器分析數(shù)據(jù)時(shí)的穩(wěn)定性。

直讀光譜儀的分辨率受到入縫寬度、出縫寬度、光柵刻線數(shù)、光譜儀的焦距、光線入射角、光譜級(jí)次等因素的綜合影響,其中全譜和多道直讀光譜儀的主要區(qū)別在于出入縫寬度、光柵刻線數(shù)和焦距的不同.全譜型直讀光譜儀雖然焦距比較小,但其采用了更窄的入縫和更高刻線數(shù)的光柵,因此其光學(xué)分辨率與大型多道光譜儀相當(dāng);而且大型多道直讀光譜儀采用PMT作為檢測(cè)器,必須配合出縫來(lái)選擇光譜,受制于光譜強(qiáng)度、出縫的加工和光學(xué)調(diào)試難度等因素的影響,出縫寬度通常在50μm左右,影響了多道光譜儀的分辨能力.而全譜型直讀光譜儀采用CCD作為檢測(cè)器,其像素寬度僅為10μm左右,大大提高了光譜的分辨能力.

吹氬的主要作用是試樣激發(fā)時(shí)趕走火花室內(nèi)的空氣,減小空氣對(duì)紫外光區(qū)譜線的吸收。主要是因?yàn)榭諝庵械难鯕?、水蒸氣在遠(yuǎn)紫外區(qū)具有強(qiáng)烈的吸收帶,對(duì)分析結(jié)果造成很大的影響,且不利于激發(fā)穩(wěn)定,形成或加強(qiáng)擴(kuò)散放電,激發(fā)時(shí)產(chǎn)生白點(diǎn)。另外,樣品中的合金元素在高溫情況下可能會(huì)與空氣中成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成分子化合物,從而會(huì)有分析光譜對(duì)我們所需的原子光譜造成干擾。因此必須要求氬氣的純度達(dá)到99.999% 以上。另外,氬氣的壓力和流量也對(duì)分析質(zhì)量有一定影響,它決定氬氣對(duì)放電表面的沖擊能力,這種激發(fā)能力必須適當(dāng),過(guò)低,不足以將試樣激發(fā)過(guò)程中產(chǎn)生的氧氣和它形成的氧化物沖掉,這些氧化物凝集在電極表面上,從而抑制試樣的繼續(xù)激發(fā);氬氣流量過(guò)大,一是造成不必要的浪費(fèi)。二是對(duì)光譜儀也有一定的損傷。因此氬氣壓力和流量必須適當(dāng)。據(jù)實(shí)踐證明,氬氣的壓力和流量,應(yīng)根據(jù)不同材質(zhì)進(jìn)行調(diào)節(jié),對(duì)中低合金鋼的分析,輸入光譜儀的氬氣壓力應(yīng)達(dá)到0.5—1.5MPa,動(dòng)態(tài)氬的流量為12~ 20個(gè)讀數(shù),靜態(tài)氬的流量為3~5個(gè)讀數(shù)。

光譜儀采用了一個(gè)復(fù)雜而又敏感的光學(xué)系統(tǒng)。光譜儀的環(huán)境溫度,濕度,機(jī)械振動(dòng),以及大氣壓的變化,都會(huì)使譜線產(chǎn)生微小的變化而造成譜線的偏移。氣壓和濕度變化會(huì)改變介質(zhì)的折射率,從而使譜線發(fā)生偏移,濕度的提高不僅會(huì)使空氣的折射率增大,而且會(huì)對(duì)光學(xué)零件產(chǎn)生腐蝕作用,降底了儀器透光率,濕度一般應(yīng)控制在55% -60% 以下。溫度對(duì)光柵的影響主要改變光柵常數(shù),使角色散率發(fā)生變化,產(chǎn)生譜線漂移。這些變化會(huì)使光譜線不能完全對(duì)準(zhǔn)相應(yīng)的出射狹縫,從而影響分析結(jié)果。
?原位單次放電采集的專利技術(shù)(SDA)有效提高分析精度
?單板式透鏡架,擦拭時(shí)大大降低對(duì)光室的污染
?基于 ARM9 的儀器狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)
?固態(tài)吸附阱,防止油氣對(duì)光室的污染,提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性
?綠光背景燈,加快響應(yīng)速度,提高短期分析精度
?·銅火花臺(tái)底座,提高散熱性及堅(jiān)固性。
?·激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料。
?可變延時(shí)積分技術(shù),大大降低背景干擾。
?高精度光電倍增管負(fù)高壓獨(dú)立供電連續(xù)可調(diào)技術(shù),調(diào)整更精確,可程序調(diào)整,提高動(dòng)態(tài)范圍。
?網(wǎng)口采集,通用性更強(qiáng)。
?真空光室由特殊材質(zhì)制作:極低的熱膨脹系數(shù),受溫度波動(dòng)影響小。
?全新光室結(jié)構(gòu):可輕松檢測(cè) Li、Na、K 等長(zhǎng)波元素以及極短波長(zhǎng)元素或干擾嚴(yán)重的元素,如 N、P、S、B、Sb 等。
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?自動(dòng)描跡:全新設(shè)計(jì)的自動(dòng)描跡系統(tǒng),快速精準(zhǔn),大大提高了儀器分析效率并降低了操作難度,提供自動(dòng)與手動(dòng)描跡切換功能。
?全新設(shè)計(jì)的共軸火花臺(tái):采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路,大大減少了氬氣的消耗量,減少了火花臺(tái)內(nèi)部的殘留金屬粉塵并且提高了儀器分析數(shù)據(jù)時(shí)的穩(wěn)定性。

直讀光譜儀的分辨率受到入縫寬度、出縫寬度、光柵刻線數(shù)、光譜儀的焦距、光線入射角、光譜級(jí)次等因素的綜合影響,其中全譜和多道直讀光譜儀的主要區(qū)別在于出入縫寬度、光柵刻線數(shù)和焦距的不同.全譜型直讀光譜儀雖然焦距比較小,但其采用了更窄的入縫和更高刻線數(shù)的光柵,因此其光學(xué)分辨率與大型多道光譜儀相當(dāng);而且大型多道直讀光譜儀采用PMT作為檢測(cè)器,必須配合出縫來(lái)選擇光譜,受制于光譜強(qiáng)度、出縫的加工和光學(xué)調(diào)試難度等因素的影響,出縫寬度通常在50μm左右,影響了多道光譜儀的分辨能力.而全譜型直讀光譜儀采用CCD作為檢測(cè)器,其像素寬度僅為10μm左右,大大提高了光譜的分辨能力.

吹氬的主要作用是試樣激發(fā)時(shí)趕走火花室內(nèi)的空氣,減小空氣對(duì)紫外光區(qū)譜線的吸收。主要是因?yàn)榭諝庵械难鯕?、水蒸氣在遠(yuǎn)紫外區(qū)具有強(qiáng)烈的吸收帶,對(duì)分析結(jié)果造成很大的影響,且不利于激發(fā)穩(wěn)定,形成或加強(qiáng)擴(kuò)散放電,激發(fā)時(shí)產(chǎn)生白點(diǎn)。另外,樣品中的合金元素在高溫情況下可能會(huì)與空氣中成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成分子化合物,從而會(huì)有分析光譜對(duì)我們所需的原子光譜造成干擾。因此必須要求氬氣的純度達(dá)到99.999% 以上。另外,氬氣的壓力和流量也對(duì)分析質(zhì)量有一定影響,它決定氬氣對(duì)放電表面的沖擊能力,這種激發(fā)能力必須適當(dāng),過(guò)低,不足以將試樣激發(fā)過(guò)程中產(chǎn)生的氧氣和它形成的氧化物沖掉,這些氧化物凝集在電極表面上,從而抑制試樣的繼續(xù)激發(fā);氬氣流量過(guò)大,一是造成不必要的浪費(fèi)。二是對(duì)光譜儀也有一定的損傷。因此氬氣壓力和流量必須適當(dāng)。據(jù)實(shí)踐證明,氬氣的壓力和流量,應(yīng)根據(jù)不同材質(zhì)進(jìn)行調(diào)節(jié),對(duì)中低合金鋼的分析,輸入光譜儀的氬氣壓力應(yīng)達(dá)到0.5—1.5MPa,動(dòng)態(tài)氬的流量為12~ 20個(gè)讀數(shù),靜態(tài)氬的流量為3~5個(gè)讀數(shù)。

光譜儀采用了一個(gè)復(fù)雜而又敏感的光學(xué)系統(tǒng)。光譜儀的環(huán)境溫度,濕度,機(jī)械振動(dòng),以及大氣壓的變化,都會(huì)使譜線產(chǎn)生微小的變化而造成譜線的偏移。氣壓和濕度變化會(huì)改變介質(zhì)的折射率,從而使譜線發(fā)生偏移,濕度的提高不僅會(huì)使空氣的折射率增大,而且會(huì)對(duì)光學(xué)零件產(chǎn)生腐蝕作用,降底了儀器透光率,濕度一般應(yīng)控制在55% -60% 以下。溫度對(duì)光柵的影響主要改變光柵常數(shù),使角色散率發(fā)生變化,產(chǎn)生譜線漂移。這些變化會(huì)使光譜線不能完全對(duì)準(zhǔn)相應(yīng)的出射狹縫,從而影響分析結(jié)果。
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公司名稱 鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
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網(wǎng)址 http://www.ncs-instrument.com/
地址 北京市
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