化合物濺射靶材

中諾新材（北京）科技有限公司可以定制加工不同尺寸，不同純度的二元，三元，多元化合物濺射靶材

氧化物靶材Al2O3 MgO Fe2O3 Fe3O4 Ga2O3 Nb2O5 NiO TiO2 ZnO ZrO……

氮化物靶材AlN BN Si3N4 TaN TiN……

碳、硫化物靶材BC SiC WC MoS2 WS2 CdS ZnS Bi2S3 ……

二元化合物靶材ITO AZO TZO GZO IGZO Bi2Se3 Bi2Te3……

多元化合物靶材CIGS PZT BST LSMO……

以上產(chǎn)品純度，99.5-99.99%，可定制不同比例摻雜靶材，可提供圓靶，矩形靶。并且可提供靶材焊接綁定服務(wù)

合金熔煉材料

隨著材料行業(yè)的快速發(fā)展，新型合金材料潛力巨大。高溫合金，高熵合金，非晶合金等各種特殊要求合金對(duì)熔煉原料的要求越來(lái)越高。中諾新材可根據(jù)客戶不同爐體坩堝對(duì)投料數(shù)量的要求，定制加工各種高純度，不同規(guī)格的金屬原料。

分類(lèi)——常規(guī)規(guī)格——適用范圍

標(biāo)準(zhǔn)顆?！?*5mmφ3*3mmφ6*6mm 10*10*2mm——投料量小，純度要求高，配比要求準(zhǔn)確

破碎小塊——1-10mm 2-6mm 3-5mm——投料量小，純度要求較高，配比要求準(zhǔn)

切割大塊——1-3cm  3-5cm  ＜10cm——投料量大，純度要求高

批量塊錠——25kg/桶  100kg/件——投料量大，純度要求不高，可獨(dú)立加工處理

貴金屬靶材尺寸

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過(guò)熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機(jī)加工制造而成。純度均可達(dá)到99.99%，主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、太陽(yáng)能光伏、平面顯示、磁學(xué)等行業(yè)。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過(guò)粉末冶金鑄錠，并精密機(jī)加工成靶，產(chǎn)品純度可達(dá)99.95%。主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、磁學(xué)等行業(yè)。

常規(guī)靶材有：

高純金 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鉑 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鈀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純釕 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銠 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純銥 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

常規(guī)厚度1-6mm

可定制加工的圓靶方靶，可提供靶材綁定服務(wù)。