處理氣量：（1-200）Nm3/h
壓力：≤1.0Mpa
氬氣純度：≥99.999％ 
露點(diǎn)：≤-70℃

含氧量：≤1.5ppm

含氫量：≤0.5ppm

含氮量：≤4ppm

ΣCH≤1ppm

廣泛應(yīng)用于：

熔硅單晶爐配套使用，激光器、濺射、半導(dǎo)體生產(chǎn)，氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門(mén)。

高純氬氣純化設(shè)備

      原料氣可以是液氬，瓶裝氬氣等，針對(duì)原料氬氣的成分不同，可定制多種凈化方案。提純過(guò)程有催化脫氧、冷卻冷凝、吸附脫水、深度凈化爐等工藝，保證客戶的不同需求。

技術(shù)特點(diǎn)
采用凈化爐脫除雜質(zhì)氣體，效果可達(dá)產(chǎn)品氣純度99.999%。

采用優(yōu)質(zhì)分子篩，產(chǎn)品氧氣含濕量≤-70℃露點(diǎn)。
采用高效燒結(jié)過(guò)濾器，除塵后分子粒度≤0.1μm。
純化工作氣體壓力范圍0.2-5.0MPa，并能適用于壓力波動(dòng)氣體。
原料氣采用先進(jìn)工作流程，溫度控制安全可靠。
安裝方便，結(jié)構(gòu)緊湊，維修簡(jiǎn)單。