化合物濺射靶材

中諾新材（北京）科技有限公司可以定制加工不同尺寸，不同純度的二元，三元，多元化合物濺射靶材

氧化物靶材Al2O3 MgO Fe2O3 Fe3O4 Ga2O3 Nb2O5 NiO TiO2 ZnO ZrO……

氮化物靶材AlN BN Si3N4 TaN TiN……

碳、硫化物靶材BC SiC WC MoS2 WS2 CdS ZnS Bi2S3 ……

二元化合物靶材ITO AZO TZO GZO IGZO Bi2Se3 Bi2Te3……

多元化合物靶材CIGS PZT BST LSMO……

以上產(chǎn)品純度，99.5-99.99%，可定制不同比例摻雜靶材，可提供圓靶，矩形靶。并且可提供靶材焊接綁定服務(wù)

高純金屬材料介紹

高純金屬材料是指化學(xué)純度高、雜質(zhì)含量少、與常規(guī)金屬相比具有優(yōu)異的物理化學(xué)性能的新材料，被認(rèn)為是現(xiàn)代高新技術(shù)發(fā)展的基礎(chǔ)，是衡量一個國家或地區(qū)高新技術(shù)發(fā)展水平的重要指標(biāo)。由于高純材料具有優(yōu)異的物化性能，在半導(dǎo)體、光電學(xué)、電子信息、航天軍等領(lǐng)域應(yīng)用越來越廣泛。

中諾新材專業(yè)生產(chǎn)加工高純金屬靶材，粉末，顆粒等，并可根據(jù)您的需求提供專業(yè)的定制服務(wù)。

高純蒸發(fā)料

蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應(yīng)商，可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。這些材料可做成絲狀，片狀，顆粒狀。適用于鎢絲籃加熱蒸發(fā)，鎢舟，鉬舟蒸發(fā)，各種坩堝蒸發(fā)等。

同時，這些材料亦廣泛應(yīng)用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質(zhì)晶體制備等領(lǐng)域。