
實驗涂膜設(shè)備-GSL-1800X-ZF2型-蒸發(fā)鍍膜儀-采用桌面小型一體化結(jié)構(gòu)7英寸顯示屏顯操作界面
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實驗涂膜設(shè)備 GSL-1800X-ZF2型 蒸發(fā)鍍膜儀
GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專院校、科研機構(gòu)、企業(yè)實驗室及進行微小產(chǎn)品真空鍍膜工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)的單位。GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀在蒸發(fā)鍍膜過程中樣品臺可以進行旋轉(zhuǎn),使蒸發(fā)的薄膜材料在樣品表面均勻分布。配有兩組蒸發(fā)單元,一個鎢舟,一個鎢絲籃;鎢舟中可以放粉末狀的薄膜材料,鎢絲籃中可以放條狀或塊狀薄膜材料。控制屏采用7英寸TFT顯示屏顯示操作界面,TFT式顯示器具有高響應(yīng)度、高亮度、高對比度等優(yōu)點,觸屏操作,實現(xiàn)全圖形化界面,易用易懂。GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀使高真空的蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,真空度可達3.0×10-4torr。
技術(shù)參數(shù):
1、電源:AC220V 1500W
2、蒸發(fā)電源功率:1000W 5V 200A
3、蒸發(fā)電極有效距離:44mm
4、樣品臺:?120mm(可旋轉(zhuǎn))
5、膜厚測量精度:0.1?或0.01?(可選配高精度型)
6、外接真空機組:擴散泵機組(可選配國產(chǎn)110機組或進口機組)(不建議使用擴散泵)
7、極限真空度:>3.0×10-3torr(擴散泵)、3.0×10-4torr(分子泵)(不建議使用擴散泵)
8、工作真空度:5.0×10-3torr
9、真空接口:KF40
10、使用環(huán)境:溫度35℃,濕度<75%(相對濕度)不結(jié)露,海拔<1500m
11、產(chǎn)品規(guī)格:440mm×240mm×260mm(不包括真空機組);
12、重量:約47kg(不包括真空泵)
主要技術(shù)特點:
1、采用桌面小型一體化結(jié)構(gòu),將真空腔體、鍍膜電源及控制系統(tǒng)進行整合設(shè)計,體積與一臺A3打印機相仿。
2、采用電阻式雙蒸發(fā)源結(jié)構(gòu),可快速實現(xiàn)蒸發(fā)源的轉(zhuǎn)換。蒸發(fā)單元中裝有兩組蒸發(fā)電極可安裝不同的蒸發(fā)源,適應(yīng)相應(yīng)的鍍膜材料。
3、配有0.1%精度蒸發(fā)電源,并具有恒流輸出功能,對蒸發(fā)舟能起到很好的保護作用。
4、可選配石英晶體膜厚控制儀,在鍍膜過程中對鍍膜速率和膜層厚度進行控制。
5、可將采集到的鍍膜數(shù)據(jù)保存到U盤,便于用戶分析控制(選配)。
6、本機將所有功能設(shè)計成標準化模塊,根據(jù)用戶不同的需求對相應(yīng)模塊進行組合,以達到化的鍍膜環(huán)境,并便于用戶維修與維護。
7、操作控制采用7英寸TFT顯示屏顯示操作界面,觸屏操作,實現(xiàn)全圖形化界面,易用易懂。
安轉(zhuǎn)條件:
本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
2、工作臺:落地式,占地面積2m2以上
3、通風裝置:需要

