UV光解除臭設(shè)備簡(jiǎn)介
  本公司設(shè)計(jì)研發(fā)的UV光降除臭設(shè)備采用特質(zhì)的高能高臭氧UV光解紫外線(xiàn)光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類(lèi)，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，能夠使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線(xiàn)光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
UV光解除臭設(shè)備原理
  收集廢氣由風(fēng)管風(fēng)機(jī)引入臭氣利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，UV+02- 0-+0*（活性氧）0+02-03（臭氧），在生物學(xué)中很多人都知道臭氧對(duì)有機(jī)物是有極強(qiáng)的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味能夠很好的清除效果。
本公司UV光解除臭設(shè)備特點(diǎn)
1：高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC).硫化氫，氨氣，硫醇類(lèi)等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)98%以上。
2：低濃度廢氣無(wú)需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，高濃度廢氣可增加催化物質(zhì)層，價(jià)格在以上價(jià)格基礎(chǔ)增加15%。
3：適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，運(yùn)行穩(wěn)定。
4,無(wú)需預(yù)處理：惡臭氣體無(wú)需進(jìn)行特殊的雨處理，如加溫，加濕等。
5：操作簡(jiǎn)單方便，性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)。
UV光解除臭設(shè)備適用范圍
  煉油廠(chǎng)、橡膠廠(chǎng)、皮革廠(chǎng)、印刷廠(chǎng)、化工廠(chǎng)、中西藥廠(chǎng)、金屬鑄造廠(chǎng)、塑料再生廠(chǎng)、噴涂溶劑等有機(jī)和無(wú)機(jī)物惡臭氣體的脫臭凈化處理。