生產(chǎn)型 高真空磁控濺射及離子輔助復(fù)合鍍膜機(jī)（PVD-1000B系列）該設(shè)備采用磁控濺射、離子輔助、反應(yīng)濺射的工藝方法，在工件表面制備各種薄膜材料。該設(shè)備是集成了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、磁控濺射、離子輔助鍍膜及反應(yīng)濺射鍍膜等工藝方法于一體的PVD設(shè)備。

可以制備單層膜、多層膜、摻雜膜、金屬膜及合金膜、化合物薄膜等。

設(shè)備結(jié)構(gòu)及性能參數(shù)

真空室為圓柱形、上開蓋、前開門結(jié)構(gòu)；使用材料均為奧氏體不銹鋼304/321，表面電化學(xué)拋光處理，無微觀毛刺，不會藏污納垢。

磁控濺射靶為矩形，沿真空室壁的圓周排列，可調(diào)整靶面與工件的距離。

樣品架為圓筒形，樣品裝載數(shù)量大；旋轉(zhuǎn)運(yùn)動為齒輪驅(qū)動式，動力直連輸入，經(jīng)齒輪驅(qū)動樣品臺轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)，運(yùn)行平穩(wěn)，無抖動；密封可靠，故障率低。

加熱系統(tǒng)采用紅外加熱器，對真空環(huán)境無污染，加熱均勻；采用具有PID功能的智能溫控儀控制加熱功率。

電氣控制及操作系統(tǒng)工作穩(wěn)定可靠，操作界面清晰大方，便于操作。

系統(tǒng)安全保護(hù)設(shè)置齊全，設(shè)備啟動后可實(shí)行無人運(yùn)行。

設(shè)備重點(diǎn)性能參數(shù)